Fotolithography menggunakan tiga langkah proses asas untuk memindahkan corak daripada topeng kepada wafer: salut, kembangkan, dedahkan. Corak dipindahkan ke lapisan permukaan wafer semasa proses seterusnya. Dalam sesetengah kes, corak rintangan juga boleh digunakan untuk menentukan corak bagi filem nipis yang didepositkan.
Apakah fotolitografi Bagaimana ia berfungsi?
Fotolithography ialah proses yang mana polimer fotosensitif didedahkan secara terpilih kepada cahaya melalui topeng, meninggalkan imej terpendam dalam polimer yang kemudiannya boleh dilarutkan secara terpilih untuk memberikan corak akses kepada substrat asas.
Mengapa fotolitografi digunakan?
Fotolithography ialah salah satu kaedah mikrofabrikasi yang paling penting dan paling mudah, dan digunakan untuk mencipta corak terperinci dalam bahan. Dalam kaedah ini, bentuk atau corak boleh terukir melalui pendedahan terpilih polimer sensitif cahaya kepada cahaya ultraungu.
Mengapa cahaya UV digunakan dalam fotolitografi?
Fotolitografi membolehkan pengkapsulan 3D sel dalam hidrogel dengan memaut silang prapolimer yang mengandungi sel di bawah cahaya UV. Topeng foto digunakan untuk mendapatkan corak yang diingini [88].
Apakah keperluan fotolitografi?
Secara amnya, proses fotolitografi memerlukan tiga bahan asas, sumber cahaya, topeng foto dan photoresist. Photoresist, bahan fotosensitif,mempunyai dua jenis, positif dan negatif. Photoresist positif menjadi lebih larut selepas terdedah kepada sumber cahaya.
Photolithography: Step by step
